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由于被溅射原子是与具有数十电子伏特能量的正离子交换动能后飞溅出来的,因而溅射出来的原子能量高,有利于提高沉积时原子的扩散能力,ck300三靶磁控溅射仪多少钱,提高沉积组织的致密程度,使制出的薄膜与基片具有强的附着力。
溅射时,ck300三靶磁控溅射仪价格,气体被电离之后,气体离子在电场作用下飞向接阴极的靶材,电子则飞向接地的壁腔和基片。这样在低电压和低气压下,产生的离子数目少,靶材溅射效率低;而在高电压和高气压下,尽管可以产生较多的离子,但飞向基片的电子携带的能量高,容易使基片---甚至发生二次溅射,影响制膜。另外,靶材原子在飞向基片的过程中与气体分子的碰撞几率也大为增加,因而被散射到整个腔体,既会造成靶材浪费,又会在制备多层膜时造成各层的污染。
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1. 溅射室---真空度:≤6.6×10-6 pa
2. 系统真空检漏漏率:≤5.0×10-7pa.l/s
3. 系统从---开始抽气:溅射室30分钟可达到6.6×10-4 pa;
4. 系统停泵关机12小时后真空度:≤5pa
5. 溅射真空室1套,立式上开盖结构,尺寸不小于ф300mm×300mm,全不锈钢结构,弧焊接,表面进行电化学抛光,内含防污内衬,可内烘烤到100~150℃,接口采用金属垫圈密封或氟橡胶圈密封,腔体内有照明系统
6. 磁控溅射系统 3套, 提供3块测试靶材。镀膜不均匀度≤5%
7. 旋转基片台 1套,样品台可放置不小于100mm样品1片,具有连续旋转功能,旋转0—30转/分连续可调。基片加热温度:室温—500°c连续可调,由热电偶闭环反馈控制,ck300三靶磁控溅射仪厂,加热电源配备控温表,控温方式为pid自动控温及数字显示
8. 观察窗口及法兰接口部件 1套
9. 工作气路1套,包含:100sccm、20sccm流量控制器、cf16截止阀、管路、接头等共2路; dn16充气阀、管路、接头等2路;
10. 抽气机组及阀门、管道 1套,包含1台进口复合分子泵及变频控制电源(680l/s ,德国普发hipace700分子泵);1台机械泵(4l/s) ,1台dn40气动截止阀,机械泵与真空室之间的旁抽管路1套,cc150气动闸板阀1台(用于复合分子泵与真空室隔离),节流阀1台,dn40旁抽气阀1台,压差式充气阀1台;管道采用不锈钢三通及波纹管,
11. 安装机台架组件 1套,由方钢型材焊接成,快卸围板表面喷塑处理,机台表面用不锈钢蒙皮装饰,四只脚轮,可固定,可移动。
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采用---的in-line产线结构,twin-mag孪生阴极磁控溅射技术,并配以全自动控制系统、---的真空系统,可在玻璃衬底上镀制sio2、ito、azo、al、ni、ti等各类绝缘介质薄膜、金属或合金薄膜,并可连续溅镀多种不同材质的薄膜构成复合多膜层结构,适合---光学、电学薄膜的生产,做到一机多用
本产品可广泛应用于触摸屏ito镀膜、lcd显示屏ito镀膜、薄膜太阳能电池背电极及azo镀膜、彩色滤光片镀膜、电磁屏蔽玻璃镀膜、ar镀膜、装饰镀膜等产业领域。
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