主要用途：
用于制备导电薄膜，半导体薄膜，多源蒸发镀膜机，铁电薄膜，光学薄膜等。
系统组成:
该蒸镀设计系统主要由真空抽气及真空测量系统、真空室系统、工件架系统、蒸发源系统、膜厚测试系统、蒸发舟挡板系统、烘烤照明系统、水冷却循环及报警系统、电控及控制系统、辅助系统等设计。
技术指标：
---真空度：≤6.7×10 pa
恢复真空时间：从1×10 pa抽至5×10 pa≤20min
系统漏率：6. 7×10-7pa.l/s；
真空室：ф400 x400mm圆筒型真空室 ，
蒸发源：1-4个，采用电阻蒸发舟、蒸发蓝、绞丝、束源炉至下向上蒸发镀膜。
蒸发温度：加热温度：室温～1800℃；
蒸发舟在距中心100～160mm的圆周上；蒸发舟可上下升降，调节幅度0～150mm（样品中心与坩埚距离150~300mm）；
烘烤温度：400℃数显自动热偶控温（高温炉盘，数显自动热偶控温可加热到700℃）
电阻蒸发源：电压5v，10v，功率2.5kw，水冷电极1~4对
石英晶振膜厚控制仪：膜厚测量范围0-999999?
主要用途：
---适合opv/钙钛矿/无机薄膜太阳能电池、半导体、有机el、oled显示研究与开发领域。
系统组成:
主要由真空室系统蒸发室、蒸发源系统、样品台系统、 真空抽气及测量系统、气路系统、控制系统、膜厚测试 系统、电控系统组成。
技术指标：
---真空度6.7×10-5pa，系统漏率：1×10-7pal/s； 恢复真空时间：40分钟可达6.6×10 pa（短时间暴露 ---并充干燥氮气后开始抽气）
样品台：尺寸为4英寸平面样品；
蒸发源：3套
4套挡板系统：挡板共有3套，动密封手动控制；
气路系统:流量控制器1路
石英晶振膜厚控制仪：膜厚测量范围0-999999?
可选分子泵组或者低温泵组合涡旋干泵抽气系统
工作原理：真空电阻蒸发镀膜设备是在真空室中利用电阻加热法，oled多源蒸发镀膜机，将紧贴在电阻丝上的金属丝（铝丝）熔融汽化，汽化了的金属分子沉积于基片上，400a多源蒸发镀膜机，而获得光滑高反射率的膜层，达到装饰美化物品表面的目的。
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