parylene用---的真空气相沉积工艺（cvd技术）制备，由活性小分子在基材表面生长出完全敷形的聚合物薄膜涂层，它能涂敷到各种形状的表面，包括尖锐的棱边，号称无孔不入可深入裂缝里和内表面。这种真空状态下室温沉积制备的0.1-100微米薄膜涂层，厚度均匀、致密无、透明无应力、不含助剂、不损伤工件、有优异的电绝缘性和防护性，单室三源金属热蒸发镀膜机，甚至被业内称为当今的防潮、防霉（零级）、防腐、防盐雾的特殊防护涂层。parylene涂层在具备以上优异防护性能基础上，尤其还具有---的生物兼容性，生物稳定性，并有优异的自润滑性，涂层均匀可控性，以及好的物理机械性能。
1.一腔体，采用sus304不锈钢舱体有效镀膜空间 ≧ 直径300mm x 高度350mm，腔体设有观景窗， 采用掀盖式腔盖并设有把手以便腔盖开闭。
2. 旋转平台，可承载重量: 20公斤，单室三源金属热蒸发镀膜机公司，旋转速度: 0.5至10 rpm。
3. 油式泵浦，抽气速度 ≧ 200l/min ; 压力 ≦ 5*10-3torr。
4. 控制系统，采用具pid功能之温控模块及高的精度温度传感器，系统可进行自动或半自动(温控/真空)操作，并可储存与选择recipe 。
5. 附属冷凝机，温度 ≦ -90℃
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通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为热蒸发镀膜，热蒸发镀膜技术是历史悠久的pvd镀膜技术之一。热蒸发镀膜机一般主要用于蒸发cd、pb、ag、al、cu、cr、au、ni等材料。
在高真空下，采用电阻式蒸发原理，利用大电流在蒸发舟上加热所蒸镀材料，使其在高温下熔化蒸发，从而在样品上沉积所需要的薄膜。通过调节所加电流的大小，可以方便的控制镀膜材料的蒸发速率。通常适合熔点低于1500oc的金属薄膜的制备。
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主要用途：
用于纳米级单层及多层金属膜、 半导体膜等新材料的制备。广泛应用 于大专院校的薄膜材料科研。
系统组成:
由真空室、蒸发源、样品台、 真空测量、膜厚测试、电控系统组成。
技术指标：
---真空度5.0×10-5pa，单室三源金属热蒸发镀膜机，系统漏率：1×10-7pal/s； 恢复真空时间：40分钟可达6.6×10 pa
真空室：d形真空室，尺寸350× 380mm
样品台：尺寸为4英寸厚度3mm的平面样品；
电极：数量：4支水冷结构；直径φ20㎜
样品基片:，基片在镀膜位置实现自转。基片的温度从室温至600℃
4套挡板系统：基片挡板与源挡板；靶挡板共有3套， 样品挡板（１套）
石英晶振膜厚控制仪：膜厚测量范围0-999999?
可选分子泵组或者低温泵组合涡旋干泵抽气系统。
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单室三源金属热蒸发镀膜机-沈阳鹏程由沈阳鹏程真空技术有限责任公司提供。沈阳鹏程真空技术有限责任公司（www.pengchengzk.com）是辽宁 沈阳 ,成型设备的企业，多年来，公司贯彻执行科学管理、---发展、诚实守信的方针，满足客户需求。在沈阳鹏程---携全体员工热情欢迎---垂询洽谈，共创沈阳鹏程美好的未来。
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