主要用途:
用于制备导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、光学薄膜等,电子束蒸发镀膜机价格,批量生产型。
系统组成:
系统主要由蒸发真空室、e型电子枪、热蒸发电极、旋转基片加热台、工作气路、抽气系统、真空测量、计算机系统及安装机台等部分组成。
技术指标:
---真空度:≤6.7×10 pa 恢复真空时间:从1×10 pa抽至5×10 pa≤20min
系统漏率:6. 7×10-7pa.l/s;
真空室:真空室1200x9000 x800mm采用u型箱体前开门,后置抽气系统
e型电子枪:阳极电压:10kv(2套) 坩埚:水冷式坩埚,24穴设计,每个容量11ml
功率:0-10kw可调 电阻蒸发源(可选)
基片尺寸:可放置4″基片一次更换20个样品
样品台:基片可连续回转,转速5-60转/分基片与蒸发源之间距离350mm加热温度 400°c±1°c
气路系统:流量控制器1路
石英晶振膜厚控制仪:监测膜厚显---围:0-99μ9999?
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1、烘烤照明系统1套。烘烤温度:室温-150℃。(在10-4pa时,真空室内残余气体的组合,水蒸汽约占 90%以上,电子束蒸发镀膜机厂家,因此在该压强下进行蒸镀,实际上相当于在水蒸汽中制膜,为了减少水份,提高真空室温,使水分解,是提高膜层的一种可行办法)。
2、电控柜:标准电控柜,组装总控制电源、真空系统控制(分子泵、机械泵电源、挡板等)、数显真空计等。柜底下配脚轮,方便移动、定位。
3、手动按钮式操作,电子束蒸发镀膜机,备留机电转换及控制接口,方便实验记录.
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1. 总电源
2. 同时开电子枪控制ⅰ和电子枪控制ⅱ电源:按电子枪控制ⅰ电源、---开关、电源及保护灯亮,三分钟后--- 及保护灯灭,若后门未关好或水流继电器有故障,保护灯会常亮。
3. 开高压,高压会达到10kv以上,调节束流可到200ma左右,帘栅为20v/100ma,电子束蒸发镀膜机,灯丝电流1.2a,偏转电流在1~1.7之间摆动。
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