广泛应用于高校材料、物理、化学、电子、能源等相关学科以及科研院所制备高功能薄膜、蒸镀电极等,半导体、有机el、oled显示研究与开发领域。
系统组成:
主要由真空室、蒸发源、样品台、 真空抽气及测量、膜厚测试 、电控系统组成。
技术指标:
---真空度4×10-5pa,系统漏率:1.2×10-7pal/s; 恢复真空时间:40分钟可达6.0×10 pa-4
真空室:d形真空室,尺寸350× 400mm
样品台:尺寸为4英寸4平面样品;
有机束源炉:数量:4支,双室多源蒸发镀膜机厂家,标准型600度控温;
样品架:安装加热炉。基片的温度从室温至600℃(硅片上表面的温度,只需标定一次即可)
4套挡板系统:动密封手动控制;
样品挡板(1套),磁力拨叉,
膜厚控制仪:膜厚测量范围0-999999?
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适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等,可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作,也可用于大批量生产前的试验工作。与手套箱联合系统的用户群体为科研院所及实验室,将真空蒸发系统工作室置于glove box无水、无氧、无尘的超纯环境中,pvd与glove box硬件无缝对接,双室多源蒸发镀膜机厂家,操控融合一体,多源蒸发镀膜机厂家,广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、oled等研究领域
主要用途:
用来生长有机材料提纯的研究工作。
系统组成: 该类设备为单室结构。
技术指标:
---真空≤610-4pa,工作压力≤2*10-3pa;
系统漏率≤6.7×10-7pal/s。
镀膜室:腔室尺寸约为φ50×350mm,石英材料,圆柱形结构。
抽气系统:采用分子泵+机械泵抽气系统;
样品可加热,加热温度为:200-600℃;
可选分子泵组或者低温泵组合涡旋干泵抽气系统
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