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化学气相沉积法生产金属铱高温涂层从20世纪80年代起,nasa 开始尝试使用金属有机化合物化学气相沉积法制取出使用铼基铱作为涂层的复合喷管,进口化学气相沉积设备公司,并获得了成功,这时化学气相沉积法在生产金属涂层领域才有了一定程度上的突破。
nasa 使用了c15h21iro6作为制取铱涂层的材料,并利用 c15h21iro6的热分解反应进行沉积。铱的沉积速度很快,可以达到3~20μm/h。 沉积厚度也达到了50μm,c15h21iro6的制取效率达 70%以上。
化学气相沉积的方法很多,进口化学气相沉积设备,如常压化学气相沉积(atmospheric pressure cvd,进口化学气相沉积设备报价,apcvd)、低压化学气相沉积(low pressure cvd,lpcvd)、真空化学气相沉积(ultrahigh vacuum cvd,uhvcvd)、激光化学气相沉积(laser cvd,lcvd)、金属有机物化学气相沉积(metal-organic cvd,mocvd),等离子体增强化学气相沉积(plasma enhanced cvd,进口化学气相沉积设备,pecvd)等。
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化学气相沉积是一种化工技术,该技术主要是利用含有薄膜元素的一种或几种气相化合物或单质、在衬底表面上进行化学反应生成薄膜的方法。化学气相淀积是近几十年发展起来的制备无机材料的新技术。化学气相淀积法已经广泛用于提纯物质、研制新晶体、淀积各种单晶、多晶或玻璃态无机薄膜材料。这些材料可以是氧化物、---物、氮化物、碳化物,也可以是iii-v、ii-iv、iv-vi族中的二元或多元的元素间化合物,而且它们的物理功能可以通过气相掺杂的淀积过程准确控制。化学气相淀积已成为无机合成化学的一个新领域。
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