脉冲激光沉积设备价格-脉冲激光沉积设备-沈阳鹏程有限公司

脉冲激光沉积选件介绍

激光分子束外延(laser mbe )

激光mbe 是普遍采用的术语，该法是一种纳米尺度薄膜合成的理想方法，高真空下的pld 与在线工艺监测的反射高能电子衍射（rheed）的联合应用，用户提供了类似于mbe 的薄膜生长的单分子水平控制。

正确的设计是成功使用rheed 和pld 的重要因数

rheed 通常在高真空（<10-6 torr）环境下使用。然而，因为在某些特殊情况下，脉冲激光沉积设备价格，pld 采用较高的压力，差动抽气是---的，

维持rheed 枪的工作压力，同时保持500 mtorr 的pld 工艺压力。同时，设计完整的系统消除磁场对电子束的影响是---的。neocera 的激光mbe 系统可以为用户提供在压力达到500 mtorr 时所需的单分子层控制。

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脉冲激光沉积细节介绍

很多复杂氧化物薄膜在相对高的氧气压力（>;100 torr）下冷却是有利的。所有pioneer 系统设计的工作压力范围。从它们的额定初始压力到---压力。这也有益于纳米粒子的生成。

pioneer pld 系统的激光束入射角为45°，脉冲激光沉积设备报价，保持了激光密度在靶材上的均匀性，同时避免使用复杂而昂贵的光学部件。浅的入射角能够拉长靶材上的激光斑点，导致密度均匀性的损失。

为了避免使用昂贵的与氧气兼容的真空泵流体，消除油的回流对薄膜的影响，所有pioneer 系统的标准配置都采用无油真空系统。

我们的研究表明靶和基片的距离是获得较佳薄膜的关键参数。pioneer 系统采用可变的靶和基片的距离，对沉积条件进行较大的控制。

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