激光脉冲沉积设备报价-激光脉冲沉积设备-沈阳鹏程有限公司

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    2020-10-29

董顺
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脉冲激光沉积系统配置介绍

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脉冲激光沉积系统配置:

生长室,激光脉冲沉积设备报价,进样室可选水平、垂直两种靶台可选激光加热和辐射加热两种样品台可选,激光脉冲沉积设备,激光加热高的温度1200℃工艺气路可以任意搭配配备高压rheed,工作气压可达100pa可预留法兰,用于leed,k-cell, e-beam等其它可选项如臭氧发生器,离子源,掩膜系统等。



pld450型脉冲激光镀膜介绍

沈阳鹏程真空技术有限责任公司——脉冲激光沉积供应商,我们为您带来以下信息。

主要用途:  

用于制备超导薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬薄膜等。适用于各大专院校、科研院所进行薄膜材料的科研与小批量制备。  

系统组成:  

主要由溅射真空室、旋转靶台、基片加热台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。  



常规沉积条件下的组合合成

脉冲激光沉积系统特点及优势:

可根据客户需求定制产品,灵活性高,并提供---技术支持;靶台可以安装6个靶位,靶材更换灵活;样品台样品尺寸从10x10mm样品到2英寸样品均适用;进样室可以存储多个靶和样品;交易过程无需繁琐的进、出关手续,激光脉冲沉积设备, 交货期短,---;

沈阳鹏程真空技术有限责任公司拥有---的技术,我们都以为本,信誉高,我们竭诚欢迎广大的顾客来公司洽谈业务。如果您对脉冲激光沉积感兴趣,欢迎---左右两侧的在线,或拨打咨询电话。



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