沈阳鹏程公司-等离子化学气相沉积设备报价

化学气相沉积的特点

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特点

1）在中温或高温下，通过气态的初始化合物之间的气相化学反应而形成固体物质沉积在基体上。

2）可以在常压或者真空条件下(负压“进行沉积、通常真空沉积膜层较好）。

）采用等离子和激光辅助技术可以---地促进化学反应，使沉积可在较低的温度下进行。

4）涂层的化学成分可以随气相组成的改变而变化，从而获得梯度沉积物或者得到混合镀层。

5）可以控制涂层的密度和涂层纯度。

6）绕镀件好。可在复杂形状的基体上以及颗粒材料上镀膜。适合涂覆各种复杂形状的工件。由于它的绕镀性能好，所以可涂覆带有槽、沟、孔，等离子化学气相沉积设备报价，甚至是盲孔的工件。

7）沉积层通常具有柱状晶体结构，不耐弯曲，等离子化学气相沉积设备多少钱，但可通过各种技术对化学反应进行的气相扰动，以---其结构。

8）可以通过各种反应形成多种金属、合金、陶瓷和化合物涂层。

等离子体化学气相沉积原理及特点

原理是在高频或直流电场作用下，源气体电离形成等离子体，基体浸没在等离子体中或放置在等离子体下方，吸附在基体表面的反应粒子受高能电子轰击，结合键断裂成为活性粒子，化学反应生成固态膜。沉积时，等离子化学气相沉积设备，基体可加热，亦可不加热。工艺过程包括气体放电、等离子体输运，气态物质激发及化学反应等。主要工艺参数有：放电功率、基体温度、反应压力及源气体成分。主要特点是可---降低反应温度，已用于多种薄膜材料的制备。

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