广泛应用于高校材料、物理、化学、电子、能源等相关学科以及科研院所制备高功能薄膜、蒸镀电极等,半导体、有机el、oled显示研究与开发领域。
系统组成:
主要由真空室、蒸发源、样品台、 真空抽气及测量、膜厚测试 、电控系统组成。
技术指标:
---真空度4×10-5pa,系统漏率:1.2×10-7pal/s; 恢复真空时间:40分钟可达6.0×10 pa-4
真空室:d形真空室,电阻热蒸发真空镀膜机销售,尺寸350× 400mm
样品台:尺寸为4英寸4平面样品;
有机束源炉:数量:4支,标准型600度控温;
样品架:安装加热炉。基片的温度从室温至600℃(硅片上表面的温度,电阻热蒸发真空镀膜机,只需标定一次即可)
4套挡板系统:动密封手动控制;
样品挡板(1套),磁力拨叉,
膜厚控制仪:膜厚测量范围0-999999?
沈阳鹏程真空技术有限责任公司——电阻热蒸发镀膜产品供应商,电阻热蒸发真空镀膜机厂,我们为您带来以下信息。
应用领域:
设备应用广泛,主要用于汽车反光网、烫钻、工艺品、首饰、鞋帽、钟表、灯具、装饰、手机、dvd、mp3、pda外壳、按键、化妆品外壳、玩具、圣诞礼品等行业;
镀制材料及效果:可加工的材料包括:abs、ps、pp、pvc、尼龙、金属、玻璃、陶瓷、tpu等;可镀制效果有:普通电镀亮面、哑面(半哑、全哑)、工艺电镀拉丝、雨滴、五彩等。
以下内容由沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您提供,今天我们来分享电阻热蒸发镀膜产品的相关内容,希望对同行业的朋友有所帮助!
设备用途 :
适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等,可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作,也可用于大批量生产前的试验工作。广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、oled等研究领域
设备组成:
1、镀膜室:方形前后开门结构,内带有防污板。
2、
4、样品架系统:
5、样品在镀膜过程中,可烘烤加热,加热温度为:室温~190℃,测温控温。
6、膜厚控制仪:测量范围0-999999?
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