d型磁控溅射镀膜机厂家-磁控溅射镀膜机厂家-沈阳鹏程真空技术

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    2020-11-17

董顺
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卧式磁控溅射镀膜机

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主要用途:  

用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料科研与小批量制备。  

系统组成:  

主要由真空室系统溅射室、靶及电源系统、样品台系统、真空抽气及测量系统、气路系统、控制系统、电控系统、计算机控制系统及辅助系统等组成。



磁控溅射“磁控反应”介绍

磁控反应溅射绝缘体看似容易,磁控溅射镀膜机厂家,而实际操作困难。主要问题是反应不光发生在零件表面,也发生在阳极,真空腔体表面以及靶源表面,从而引起灭火,靶源和工件表面起弧等。德国莱宝发明的孪生靶源技术,ck350磁控溅射镀膜机厂家,---的解决了这个问题。其原理是一对靶源互相为阴阳极,从而消除阳极表面氧化或氮化。冷却是一切源(磁控,多弧,离子)所必需,因为能量很大一部分转为热量,若无冷却或冷却不足,这种热量将使靶源温度达一千度以上从而溶化整个靶源。

沈阳鹏程真空技术有限责任公司以诚信为首 ,服务为宗旨。公司生产、销售磁控溅射产品,公司拥有---的销售团队和经营理念。想要了解更多信息,ck300磁控溅射镀膜机厂家,赶快拨打图片上的热线电话!



磁控溅射设备的主要用途

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(1)各种功能性薄膜:如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜。例如,低温沉积氮化硅减反射膜,d型磁控溅射镀膜机厂家,以提高太阳能电池的光电转换效率。

(2)装饰领域的应用,如各种全反射膜及半透明膜等,如手机外壳,鼠标等。

(3) 在微电子领域作为一种非热式镀膜技术,主要应用在化学气相沉积(cvd)或金属有机

(4)化学气相沉积(cvd)生长困难及不适用的材料薄膜沉积,而且可以获得大面积非常均匀的薄膜。

(5) 在光学领域:中频闭合场非平衡磁控溅射技术也已在光学薄膜(如增透膜)、低辐射玻璃和透明导电玻璃等方面得到应用。---是透明导电玻璃广泛应用于平板显示器件、太阳能电池、微波与射频屏蔽装置与器件、传感器等。

(6)在机械加工行业中,表面功能膜、超硬膜,自润滑薄膜的表面沉积技术自问世以来得到长足发展,能有效的提高表面硬度、复合韧性、耐磨损性和抗高温化学稳定性能,从而大幅度地提高涂层产品的使用寿命。

磁控溅射除上述已被大量应用的领域,还在高温超导薄膜、铁电体薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜发光材料、太阳能电池、记忆合金薄膜研究方面发挥重要作用。



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