沈阳鹏程真空技术有限责任公司生产、销售化学气相沉积，以下信息由沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您提供。
化学气相沉积法生产金属铱高温涂层从20世纪80年代起，nasa 开始尝试使用金属有机化合物化学气相沉积法制取出使用铼基铱作为涂层的复合喷管，并获得了成功，这时化学气相沉积法在生产金属涂层领域才有了一定程度上的突破。
nasa 使用了c15h21iro6作为制取铱涂层的材料，气相化学沉积设备报价，并利用 c15h21iro6的热分解反应进行沉积。铱的沉积速度很快，可以达到3~20μm/h。 沉积厚度也达到了50μm，c15h21iro6的制取效率达 70%以上。
生产晶须：
晶须属于一种以为发育的单晶体，气相化学沉积设备公司，它在符合材料范畴中有着很大的作用，能够用于生产一些新型复合材料。 化学气相沉积法在生产晶须时使用的是金属卤化物的氢还原性质。化学气相沉积法不但能制备出各类金属晶须，同时也能生产出化合物晶须，比如氧化铝、金刚砂、碳化钛晶须等等。
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化学气相沉积法生产晶体、晶体薄膜
化学气相沉积法不但可以对晶体或者晶体薄膜性能的---有所帮助，气相化学沉积设备，而且也可以生产出很多别的手段无法制备出的一些晶体。化学气相沉积法常见的使用方式是在某个晶体衬底上生成新的外延单晶层，开始它是用于制备硅的，后来又制备出了外延化合物半导体层。它在金属单晶薄膜的制备上也比较常见（比如制备 w、mo、pt、ir 等）以及个别的化合物单晶薄膜（例如铁酸镍薄膜、钇铁石榴石薄膜、钴铁氧体薄膜等）。
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