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化学气相沉积装置主要的元件就是反应器。按照反应器结构上的差别,我们可以把化学气相沉积技术分成开管/封管气流法两种类型:
1 封管法这种反应方式是将一定量的反应物质和集体放置于反应器的两边,化学气相沉积设备多少钱,将反应器中---真空,化学气相沉积设备报价, 再向其中注入部分输运气体,然后再次密封,化学气相沉积设备公司, 再控制反应器两端的温度使其有一定差别,它的优点是:能有效够避免外部污染;无须持续抽气就能使是内部保持真空。
2 开管法这种制备方法的特点是反应气体混合物能够随时补充。废气也可以及时排出反应装置。以加热方法为区分,开管气流法应分为热壁和冷壁两种。前者的加热会让整个沉积室壁都会因此变热,所以管壁上同样会发生沉积。冷壁式加热一般会使用感应加热、通电加热以及红外加热等等。
化学气相沉积的方法很多,如常压化学气相沉积(atmospheric pressure cvd,apcvd)、低压化学气相沉积(low pressure cvd,lpcvd)、真空化学气相沉积(ultrahigh vacuum cvd,uhvcvd)、激光化学气相沉积(laser cvd,lcvd)、金属有机物化学气相沉积(metal-organic cvd,mocvd),化学气相沉积设备,等离子体增强化学气相沉积(plasma enhanced cvd,pecvd)等。
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化学气相沉积技术是应用气态物质在固体上产生化学反应和传输反应等并产生固态沉积物的一种工艺,它大致包含三步:
(1)形成挥发性物质 ;
(2)把上述物质转移至沉积区域 ;
(3)在固体上产生化学反应并产生固态物质 。基本的化学气相沉积反应包括热分解反应、化学合成反应以及化学传输反应等集中。
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