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产品配置:
★样片数量及尺寸: 1片φ8英寸或5片φ4英寸或伞形工件架(用户定制)
★蒸发材料:金属;非金属;化合物等薄膜材料。
★蒸发腔体:高真空系统。
★蒸发不均匀性:≤±3%-±5%
★工件架:可旋转,转速可调
★加热:常规加热
★电子枪:e型,带xy偏转扫描
★电子枪坩埚:6穴,17cc
★膜厚监控功能:石英晶控膜厚在线监测与终点控制
★清洗功能:可选配离子源清洗
★器件一次成型复合实验系统:通过复合mask系统与样品对准系统,一次完成器件的多个工艺步骤
★检测与控制光学特性的功能:可选配光控仪
★操作模式:全自动+半自动控制
主要用途:
用于制备导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、光学薄膜等,批量生产型。
系统组成:
系统主要由蒸发真空室、e型电子枪、热蒸发电极、旋转基片加热台、工作气路、抽气系统、真空测量、计算机系统及安装机台等部分组成。
技术指标:
---真空度:≤6.7×10 pa 恢复真空时间:从1×10 pa抽至5×10 pa≤20min
系统漏率:6. 7×10-7pa.l/s;
真空室:真空室1200x9000 x800mm采用u型箱体前开门,洛阳电子束镀膜机,后置抽气系统
e型电子枪:阳极电压:10kv(2套) 坩埚:水冷式坩埚,24穴设计,每个容量11ml
功率:0-10kw可调 电阻蒸发源(可选)
基片尺寸:可放置4″基片一次更换20个样品
样品台:基片可连续回转,电子束镀膜机价格,转速5-60转/分基片与蒸发源之间距离350mm加热温度 400°c±1°c
气路系统:流量控制器1路
石英晶振膜厚控制仪:监测膜厚显---围:0-99μ9999?
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镀膜室:
采用立式、前开门结构,外壁通冷却水。镀膜室尺寸φ450×h600 mm。在腔室内壁上安装有可拆卸的内衬防护挡板一块(材质:304真空---不锈钢,电子束镀膜机多少钱, 厚度***1 mm),镀膜室及前开门材质:304真空---不锈钢,镀膜室所有焊缝连接均采用弧焊自动焊接技术;焊接完成后,镀膜室(包括抽气管道、连接法兰等)均进行内表面抛光,外表面喷砂、喷丸、电抛三项处理,以减少出气量。
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