脉冲激光沉积原理:在真空环境下利用脉冲激光对靶材表面进行轰击,利用激光产生的局域热量将靶材物质轰击出来,再沉积在不同的衬底上,从而形成薄膜。
脉冲激光沉积技术适合做的薄膜包括各种多元氧化物,脉冲激光沉积设备公司,氮化物,---物薄膜,金属薄膜,磁性材料等。
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设备主要用途
pld450a型脉冲激光沉积设备采用pld脉冲激光沉积技术,用于制备高温超导薄膜、半导体膜、铁电薄膜、硬质薄膜以及微电子和光电子用多元氧化物薄膜及异质结,也可用于制备氮、碳、硅化合物及各种有机—无机复合材料薄膜及金刚石薄膜等。
设备优点
设备全程采用一键式操作抽气,关机,程序自动化定时操作。避免了繁琐的角阀,插板阀人工开启。
设备主要组成
设备由沉积腔室(单室球形或圆筒形)、样品加热转台、激光入射转靶、激光窗、电源控制系统、激光束扫描系统、计算机控制转靶的旋转、脉冲准分子激光器等组成
脉冲激光沉积系统特点及优势:
可根据客户需求定制产品,灵活性高,并提供---技术支持;靶台可以安装6个靶位,脉冲激光沉积设备多少钱,靶材更换灵活;样品台样品尺寸从10x10mm样品到2英寸样品均适用;进样室可以存储多个靶和样品;交易过程无需繁琐的进、出关手续,脉冲激光沉积设备, 交货期短,---;
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