主要用途:
用来生长有机材料提纯的研究工作。
系统组成: 该类设备为单室结构。
技术指标:
---真空≤610-4pa,工作压力≤2*10-3pa;
系统漏率≤6.7×10-7pal/s。
镀膜室:腔室尺寸约为φ50×350mm,石英材料,圆柱形结构。
抽气系统:采用分子泵+机械泵抽气系统;
样品可加热,加热温度为:200-600℃;
可选分子泵组或者低温泵组合涡旋干泵抽气系统
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parylene用---的真空气相沉积工艺(cvd技术)制备,由活性小分子在基材表面生长出完全敷形的聚合物薄膜涂层,它能涂敷到各种形状的表面,包括尖锐的棱边,号称无孔不入可深入裂缝里和内表面。这种真空状态下室温沉积制备的0.1-100微米薄膜涂层,钙钛矿热蒸发镀膜机,厚度均匀、致密无、透明无应力、不含助剂、不损伤工件、有优异的电绝缘性和防护性,甚至被业内称为当今的防潮、防霉(零级)、防腐、防盐雾的特殊防护涂层。parylene涂层在具备以上优异防护性能基础上,钙钛矿热蒸发镀膜机生产厂家,尤其还具有---的生物兼容性,生物稳定性,钙钛矿热蒸发镀膜机厂,并有优异的自润滑性,涂层均匀可控性,以及好的物理机械性能。
1.一腔体,钙钛矿热蒸发镀膜机销售,采用sus304不锈钢舱体有效镀膜空间 ≧ 直径300mm x 高度350mm,腔体设有观景窗, 采用掀盖式腔盖并设有把手以便腔盖开闭。
2. 旋转平台,可承载重量: 20公斤,旋转速度: 0.5至10 rpm。
3. 油式泵浦,抽气速度 ≧ 200l/min ; 压力 ≦ 5*10-3torr。
4. 控制系统,采用具pid功能之温控模块及高的精度温度传感器,系统可进行自动或半自动(温控/真空)操作,并可储存与选择recipe 。
5. 附属冷凝机,温度 ≦ -90℃
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设备用途 :
适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等,可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作,也可用于大批量生产前的试验工作。广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、oled等研究领域
设备组成:
1、镀膜室:方形前后开门结构,内带有防污板。
2、
4、样品架系统:
5、样品在镀膜过程中,可烘烤加热,加热温度为:室温~190℃,测温控温。
6、膜厚控制仪:测量范围0-999999?
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