多源蒸发镀膜机报价-400a多源蒸发镀膜机报价-沈阳鹏程

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    2020-10-3

董顺
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有机热蒸发镀膜机介绍

技术指标:

1. 真空室的---真空度达5*10-5pa,漏率为关机12小时≤5pa

2. 真空腔内配有集约样品台一套,配有大挡板和16套小挡板,400a多源蒸发镀膜机报价,手动控制,开关方便快捷,每个小挡板挡两块30*30mm样片

3. 蒸发源共14套,其中10套有机蒸发源,双室多源蒸发镀膜机报价,4套金属蒸发源。控温精度±1℃,可以实现温度或电流补偿实现蒸镀速率稳定的功能

4. 金属蒸发源配4台一带一1000w可控硅调压电源,通过铜电极连接,两端可夹钨绞丝或者钽舟,钨绞丝可以蒸镀丝状或者大颗粒材料,钽舟可以蒸镀粉末状材料,蒸发源采用陶瓷全密封,避免交叉污染

5. 有机蒸发源配10台一带一温控电源,有机源温度为室温-500度,可以根据材料及用户需求自行调节

6. 样品台具有旋转、升降功能,可在线更换掩膜板一次,可同时装载30mm*30mm样品16块。本产品每两个样品都配有小挡板,双室多源蒸发镀膜机报价,并且通过plc控制步进电机对每个小挡板做16个定位,使机械手推拉小挡板,样品与蒸发源之间的间距为200-300mm

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钙钛矿镀膜机介绍

主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统、真空测量系统、蒸发源、样品加热控温、电控系统、配气系统等部分组成。适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等,可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作,也可用于大批量生产前的试验工作,广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、oled等研究领域。钙钛矿镀膜机工作过程中样品位于真空室上方,蒸发源位于真空室下方,向上蒸发镀膜,且蒸发源带有挡板装置,防止蒸发源被污染。

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钙钛矿镀膜设备

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设备用途 :

适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等,可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作,也可用于大批量生产前的试验工作。广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、oled等研究领域

设备组成:

该设备主要由沉积室、真空排气系统、真空测量、蒸发源、样品加热、电控系统、等部分组成。

    1、镀膜室:方形前后开门结构,内带有防污板。

    2、真空度:镀膜室的---真空≤5×10-5pa;

    3、蒸发源系统:有机源蒸发源4个,无机蒸发源2套

    4、样品架系统:样品大小为φ150mm的样品,旋转速度为:0~30转/分;

    5、样品在镀膜过程中,多源蒸发镀膜机报价,可烘烤加热,加热温度为:室温~190℃,测温控温。

      6、膜厚控制仪:测量范围0-999999?



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