技术指标:
1. 真空室的---真空度达5*10-5pa,漏率为关机12小时≤5pa
2. 真空腔内配有集约样品台一套,配有大挡板和16套小挡板,400a多源蒸发镀膜机报价,手动
3. 蒸发源共14套,其中10套有机蒸发源,双室多源蒸发镀膜机报价,4套金属蒸发源。控温
4. 金属蒸发源配4台一带一1000w可控硅调压电源,通过铜电极
5. 有机蒸发源配10台一带一温控电源,有机源温度为室温-500度,
6. 样品台具有旋转、升降功能,可在线更换掩膜板一次,可同时装
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主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统、真空测量系统、蒸发源、样品加热控温、电控系统、配气系统等部分组成。适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等,可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作,也可用于大批量生产前的试验工作,广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、oled等研究领域。钙钛矿镀膜机工作过程中样品位于真空室上方,蒸发源位于真空室下方,向上蒸发镀膜,且蒸发源带有挡板装置,防止蒸发源被污染。
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设备用途 :
适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等,可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作,也可用于大批量生产前的试验工作。广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、oled等研究领域
设备组成:
1、镀膜室:方形前后开门结构,内带有防污板。
2、
4、样品架系统:
5、样品在镀膜过程中,多源蒸发镀膜机报价,可烘烤加热,加热温度为:室温~190℃,测温控温。
6、膜厚控制仪:测量范围0-999999?
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