多源蒸发镀膜机-沈阳鹏程真空技术-zf450多源蒸发镀膜机厂

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    2020-10-8

董顺
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zf450型全自动热蒸发镀膜机

沈阳鹏程真空技术有限责任公司——电阻器热蒸发镀膜供货商,zf450多源蒸发镀膜机厂,我们为您提供下列信息内容。

选用3~8组蒸发源可适配金属材料、有机化合物蒸发。广泛运用于---院校材料、物理学、有机化学、电子器件、电力能源等有关课程及其科研单位制取---作用塑料薄膜、蒸镀电级等,非常合适opv/钙钛矿/无机物太阳能薄膜充电电池、半导体材料、有机化学el、oled显示信息科学研究与开发设计行业。

1.前开关门真空内腔,便捷拿取基片、拆换蒸发舟、加上蒸发材料及其真空室的平时维护保养;

2.1200l/s分子泵做为主抽泵,真空限达到5×10-5pa; 

另可选择進口磁悬浮分子泵或是低温泵做为主抽泵,真空限达到 3×10-6pa;

3. 组水冷器蒸发电级,可长期平稳工作中,适配金属材料材料与有机化学材料的蒸发源设计方案,

源间有避免交叉式环境污染挡板;

4. 真空蒸发开关电源,恒流电源/恒输出功率---。可保持一键启动和终止的自动控制系统作用;

5.较大120mm基片/15~25mm ito/fto夹层玻璃25片,可订制一体化高精密刻蚀掩膜板;

6.基片台自转,转速比0~25rpm持续可调式;

7. 衬底可挑选加温或水冷散热,源基距较大350mm;

8. 选用進口膜厚---仪在线监控和---蒸发速度、膜厚;

9. 可堆积金属材料(au, ag, al, ca, cu,zf450多源蒸发镀膜机多少钱, mg, fe, cr, ni等)、非金属材料、化学物质(moo3, lif等)

及有机化合物材料, 可扩展堆积单面膜、双层膜及混和膜;

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小方分子提纯设备多源蒸发镀膜机

小方分子提纯设备  

主要用途:  

用来生长有机材料提纯的研究工作。  

系统组成:  该类设备为单室结构。  

技术指标:  

---真空≤610-4pa,工作压力≤2*10-3pa;  

系统漏率≤6.7×10-7pal/s。  

镀膜室:腔室尺寸约为φ50×350mm,石英材料,圆柱形结构。  

抽气系统:采用分子泵+机械泵抽气系统;  

样品可加热,加热温度为:200-600℃;

可选分子泵组或者低温泵组合涡旋干泵抽气系统  

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parylene裂解仪

parylene用---的真空气相沉积工艺(cvd技术)制备,由活性小分子在基材表面生长出完全敷形的聚合物薄膜涂层,它能涂敷到各种形状的表面,包括尖锐的棱边,号称无孔不入可深入裂缝里和内表面。这种真空状态下室温沉积制备的0.1-100微米薄膜涂层,厚度均匀、致密无、透明无应力、不含助剂、不损伤工件、有优异的电绝缘性和防护性,甚至被业内称为当今的防潮、防霉(零级)、防腐、防盐雾的特殊防护涂层。parylene涂层在具备以上优异防护性能基础上,尤其还具有---的生物兼容性,生物稳定性,并有优异的自润滑性,涂层均匀可控性,以及好的物理机械性能。

1.一腔体,采用sus304不锈钢舱体有效镀膜空间 ≧ 直径300mm x 高度350mm,腔体设有观景窗, 采用掀盖式腔盖并设有把手以便腔盖开闭。

2. 旋转平台,可承载重量: 20公斤,旋转速度: 0.5至10 rpm。

3. 油式泵浦,抽气速度 ≧ 200l/min ; 压力 ≦ 5*10-3torr。

4. 控制系统,采用具pid功能之温控模块及高的精度温度传感器,zf450多源蒸发镀膜机报价,系统可进行自动或半自动(温控/真空)操作,多源蒸发镀膜机,并可储存与选择recipe 。

5. 附属冷凝机,温度 ≦ -90℃

期望大家在选购电阻热蒸发镀膜产品时多一份细心,少一份浮躁,不要错过细节疑问。想要了解更多电阻热蒸发镀膜产品的相关,欢迎拨打图片上的热线电话!!!



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