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电子束蒸镀（electron beam evaporation）是物理气相沉积的一种。与传统蒸镀方式不同，电子束蒸发镀膜设备，电子束蒸镀利用电磁场的配合可以---地实现利用高能电子轰击坩埚内靶材，电子束蒸发镀膜设备，使之融化进而沉积在基片上。电子束蒸镀可以镀出高纯度的薄膜。
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高真空电子束蒸发镀膜设备采用完全封闭的系统框架，结构紧凑，外观更漂亮，使用更安全。6-10kw e型电子枪可选国产或进口，电子束蒸发镀膜设备价格，可选配离子束清洗及辅助镀膜功能。该设备广泛应用于科研院所、高校在片状、半球状、异形基底表面制备金属/化合物（ito等氧化物）/导电薄膜/光学薄膜等。
镀膜室：
采用立式、前开门结构，外壁通冷却水。镀膜室尺寸φ450×h600 mm。在腔室内壁上安装有可拆卸的内衬防护挡板一块（材质：304真空---不锈钢， 厚度***1 mm），镀膜室及前开门材质：304真空---不锈钢，镀膜室所有焊缝连接均采用弧焊自动焊接技术；焊接完成后，电子束蒸发镀膜设备厂家，镀膜室（包括抽气管道、连接法兰等）均进行内表面抛光，外表面喷砂、喷丸、电抛三项处理，以减少出气量。
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