电子束蒸发沉积镀膜设备，具有有机材料沉积和金属材料沉积成膜功能。它是在高真空条件下，通过加热材料的方法，在衬底上沉积各种化合物、混合物单层或多层膜，在衬底上沉积各种金属或合金电极并形成器件。可用于镀半导体、金属膜，氧化物、纳米级单层及多层功能膜的连续沉积.
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镀膜室：
采用立式、前开门结构，外壁通冷却水。镀膜室尺寸φ450×h600 mm。在腔室内壁上安装有可拆卸的内衬防护挡板一块（材质：304真空---不锈钢，电子束蒸发镀膜设备， 厚度***1 mm），镀膜室及前开门材质：304真空---不锈钢，电子束蒸发镀膜设备公司，镀膜室所有焊缝连接均采用弧焊自动焊接技术；焊接完成后，镀膜室（包括抽气管道、连接法兰等）均进行内表面抛光，外表面喷砂、喷丸、电抛三项处理，以减少出气量。
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电子束蒸发的优点在于：电子束的光斑可以随意调整，可以一枪多用，灯丝可以隐藏，避免污染，可以蒸发任意镀膜材料，维修方便，电子束蒸发镀膜设备，蒸发速度可以随意控制，材料分解小，膜密度高。机械强度好。
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